光学薄膜 (コーティング) 商品
光学多層膜の製造には高精度の膜厚コントロールと均一性が必要であり、一般的には真空蒸着法を用います。電子銃により1000℃～2000℃に加熱され蒸発した膜物質が真空中を空気分子と衝突することなく飛び、基板上で凝固し薄膜が形成されます。また膜を強固にするために蒸着中に300℃付近の温度で加熱します。（基板材質によっては温度コントロールすると共に条件の最適化を図ります）
多層膜は、多数の蒸発源を用いて真空を保ったまま同一工程内で行われます。光学多層膜としての性能を得るためには、全ての層において数nmの膜厚精度を要求されるので、光の干渉を利用した光学膜厚計が膜厚制御に使用されます。
真空蒸着法の他に用途によっては、光学スパッタリング法による緻密な多層膜も対応可能です。
商品ラインナップ
部品設計 見積依頼される方へ。
電子部品・光学部品用としてガラス材料を選択される場合、その目的に応じてガラスの種類・特性値等によりガラスコード番号を指定することになります。